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PECVD沉積
PECVD沉積可選配一個(gè)三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力。

型號(hào)： Minilock-... 所在地：香港特別行政區(qū)參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:46:47 對(duì)比

薄膜沉積PECVD沉積
Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

型號(hào)： Trion Ori... 所在地：香港特別行政區(qū)參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2019/1/15 17:32:51 對(duì)比

化學(xué)氣相沉積沉積系統(tǒng)薄膜沉積
磁控濺射系統(tǒng)
GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱（高可加熱到700度）功能，大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)1...

型號(hào)： GSC-1000 所在地：香港特別行政區(qū)參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2019/1/15 17:23:56 對(duì)比

磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射
Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)
Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺(tái)上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。*的反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺(tái)階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系...

型號(hào)： Trion Ori... 所在地：香港特別行政區(qū)參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2019/1/15 17:14:54 對(duì)比

薄膜沉積薄膜沉積系統(tǒng)
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀
德國韋氏納米系統(tǒng)專門為大學(xué)，研究機(jī)構(gòu)提供了一系列高真空/超高真空桌面型熱蒸發(fā)鍍膜工藝平臺(tái)。

型號(hào)： VapourSta... 所在地：香港特別行政區(qū)參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2019/1/15 17:05:07 對(duì)比

真空熱蒸發(fā)鍍膜儀鍍膜儀熱蒸發(fā)鍍膜儀